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氮气流速对反应磁控溅射制备TiAlN薄膜微观结构和摩擦学性能的影响
编号：400 访问权限：PARTICIPANT_ONLY 更新：2023-03-28 12:27:22 浏览：1099次 口头报告

报告开始：2023-04-23 17:55

报告时间：15min

所在会场：[N] 摩擦学表面工程论坛二 [N2] 下午场

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摘要
采用反应磁控溅射技术在Ti6Al4V上沉积了TiAlN陶瓷薄膜，系统研究了不同N2流速对TiAlN薄膜样品的微观结构、力学性能和摩擦磨损性能的影响及其相互之间的变化规律。结果表明：随着N2流速的增加，薄膜以TiAlN相为主，硬度和弹性模量表现为先增加后降低，与H/E*和H/E*2变化趋势相同。当N2流速为16sccm时，薄膜具有最小的磨损宽度和最低的磨损率。随着N2流速由12 sccm增加到 24sccm，薄膜的磨损机制由最初的磨粒磨损和粘合磨损转变为严重塑性变形引起的磨粒磨损，这与薄膜的微观结构和力学性能有直接的关系。
关键词
N2流速；TiAlN薄膜；力学性能； 摩擦学性能
报告人
刘明泽
陆军装甲兵学院

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重要日期

  • 会议日期

    04-21

    2023

    至

    04-23

    2023

  • 04-20 2023

    Draft paper submission deadline

  • 04-23 2023

    Registration deadline

主办单位

中国机械工程学会表面工程分会

承办单位

武汉材料保护研究所有限公司
特种表面保护材料及应用技术国家重点实验室

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