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超高吸收导电消光膜层的制备及性能研究
编号：267 访问权限：PARTICIPANT_ONLY 更新：2020-12-08 14:47:20 浏览：1105次 口头报告

报告开始：2020-11-15 09:10

报告时间：15min

所在会场：[C] 分会场二：第十二届全国青年表面工程论坛B [C1] 上午

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摘要
超高吸收导电消光膜层的制备及性能研究
程德 王景润 白晶莹 李思振 冯立 陈学成 郭中增
（北京卫星制造厂有限公司 北京 100094 chengde529@163.com）
摘要：通过微纳刻蚀在化学镀镍层表面制备具有导电-消光性能的无机膜层，研究溶液温度、pH、持续时间、热处理参数对膜层消光性能的影响规律，并测试膜层的微观形貌、消光性能、结合力、导电性、热循环性能以及空间环境稳定性。结果表明：通过优化后的溶液温度、pH、持续时间制备的超高吸收导电消光膜层全光谱吸收率最高达到0.988；通过热处理能够提高膜层的结合力和可清洁性，热处理后导电消光膜层全光谱吸收率可以稳定达到0.97以上，膜层接触电阻＜5 mΩ，具有良好的导电性，膜层具有优异的热循环稳定性和空间环境稳定性。
关键词: 导电；消光；膜层

备注：口头报告
报告人：程德，13601284474，chengde529@163.com
 
关键词
导电；消光；膜层
报告人
程德
北京卫星制造厂有限公司

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  • 会议日期

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    2020

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    11-16

    2020

  • 10-31 2020

    Early Bird Registration

  • 11-05 2020

    Draft paper submission deadline

  • 11-16 2020

    Registration deadline

主办单位

中国机械工程学会表面工程分会

承办单位

广东省新材料研究所
北京大学深圳研究生院
现代材料表面工程技术国家工程实验室

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