图书馆-报告库-中国机械工程学会表面工程分会

Oral Presentation基于PECVD方法制备的透明SiOxCyHz阻隔膜特性研究

编号：215 访问权限：Participants Only 更新：2021-04-23 13:41:19 浏览：102次收藏取消收藏

2021-05-16 16:45

15min

[H] 分会场七 [H2] 分会场七下午

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摘要

开发能够连续镀制适于产业生产，同时具有高阻水率的氧化物透明薄膜。以六甲基二硅氧烷(HMDSO)为单体，氧气(O₂)为反应气体，采用卷对卷的方式在聚酯（PET）基膜上制备了柔性硅氧烷（SiOxCyHz）薄膜。SiOxCyHz薄膜是通过对电极辊结构的等离子体增强化学气相沉积(PECVD)制备的。研究了膜厚，氧气/单体比例、反应真空度等参数对透水率（WVTR）的影响规律、测试了膜层的组分、透射光谱、应力等特性。透水率随SiOxCyHz薄膜厚度增大而减小，氧气/单体比例增大而减小，随真空度值增大而增大，在500nm的SiOxCyHz薄膜，透水率低于5x10^-3g/m²/day；SiOxCyHz薄膜的透光率达到88.6%；通过表面形貌测试膜面平整，表面粗糙度为1.8nm；硅氧烷薄膜随厚度增加应力显著增大。该镀膜方法采用卷对卷方式，适合批量化生产，制备高阻水率的透明氧化物薄膜，可应用于柔性、透明阻隔膜在有机太阳能薄膜电池、柔性有机发光二极管、电子纸和真空绝热板等领域。