Invited speech宽温域润滑类金刚石薄膜的设计、制备及摩擦学性能
编号:129 访问权限:Participants Only 更新:2021-04-27 16:18:05 浏览:101次

2021-05-16 13:30

20min

[C] 分会场二 [C2] 分会场二下午

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摘要
近年来,利用各种物理气相沉积和化学气相沉积技术制备的非晶碳基薄膜,又称类金刚石薄膜,引起了摩擦学研究者的极大兴趣,它是一类主要由sp2和sp3杂化碳原子共同组成的非晶结构薄膜,具有高硬度、耐腐蚀、低摩擦系数、长磨损寿命以及高化学稳定性等优异的性能,在众多领域显示出巨大的应用前景。然而,随着机械装备朝着高温、高速和高精度方向发展,其运行条件日益苛刻,非晶碳基薄膜在高温下(大于200℃)的润滑失效已成为限制其广泛应用的瓶颈。因此,改善非晶碳基薄膜200-600℃的摩擦学特性,提升其宽温域润滑性能,是目前非晶碳基薄膜广泛应用亟待解决的关键问题。本文利用磁控溅射技术在H13钢表面制备了具有Cr过渡层的梯度Si掺掺杂非晶碳基薄膜,对比研究了其与高Si掺杂及低Si掺杂非晶碳基薄膜室温至500℃范围内的摩擦学行为。研究表明:高Si掺杂非晶碳基薄膜在具有较好的热稳定性,500℃原位高温摩擦实验结果表明由于表面的SiO2层薄膜的摩擦系数出现较大的波动。梯度掺Si非晶碳基薄膜中Si的分布从基体至表面逐渐减小,靠近基体富Si的结构与过渡层间的物理特性差异较小,同时硬度较高为整体薄膜提供了高的承载能力。表面贫Si结构的非晶碳基薄膜在500℃的原位高温摩擦实验中,摩擦系数低至0.05,磨痕表面表面的第三体主要由较薄膜更无序化的石墨化转移层及C-O-Si键颗粒组成。C-O-Si结构对低摩擦起到重要作用,但形成稳定的C-O-Si键要求非晶碳基薄膜中Si的掺杂不易过高,高Si掺杂薄膜表面将生成不利于摩擦系数减小的SiO2氧化层,非晶碳基薄膜碳基网状结构也将被严重破坏。
 
关键词
类金刚石涂层,摩擦
报告人
王 军军
重庆理工大学

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