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Oral Presentation阳极层离子源的改进及DLC涂层的制备

编号：365 访问权限：Participants Only 更新：2020-12-08 14:39:16 浏览：1279次收藏取消收藏

2020-11-15 17:15

15min

[B] 分会场一：第十二届全国青年表面工程论坛A [B2] 下午

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摘要

阳极层离子源是用于输出气体等离子体的重要设备，在真空镀膜中用途广泛。然而，在放电的过程中，阳极层离子源的阴阳极表面会出现容易产生较严重离子沉积或溅射，产生了严重的污染，难以长期维持稳定高效的工作状态。鉴于此，本文从阳极层离子源的等离子体放电特性出发，利用等离子体仿真手段分析了电子和离子的运动轨迹，并以此对阳极层离子源进行了设备改进，大幅减小了阴阳极表面的污染。进一步利用改进的设备制备了DLC涂层，获得了厚度>50 μm，结合强度>70 N的高强度超厚DLC涂层。

关键词

离子源,等离子体仿真,DLC涂层,设备改进

报告人

崔岁寒

北京大学深圳研究生院

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活动信息

第十三届全国表面工程大会暨第十二届全国青年表面工程论坛

2020年11月13日~16日 China · 广州市

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