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Oral Presentation量子点膜用阻隔膜制备技术研究进展
编号：275 访问权限：Participants Only 更新：2020-12-08 14:02:00 浏览：1215次

2020-11-15 09:40

15min

[B] 分会场一：第十二届全国青年表面工程论坛A [B1] 上午

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摘要
量子点膜用高阻隔膜产品是量子显示封装技术的关键产品，高阻隔膜的制备工艺决定着阻隔膜产品性能特性。本文通过分析量子点膜用高阻隔膜产品性能指标，总结热蒸发、化学气相沉积、原子层沉积等制备柔性高阻隔薄膜的方法、原理、特点及应用，展望量子点膜用阻隔膜产品的发展前景。研究表明量子点膜用高阻隔薄膜制备工艺趋向于有机/无机多层结构的超高阻复合薄膜，采用卷绕PECVD技术沉积无机层，湿法涂布工艺沉积有机层是快速、高效、批量化制备量子点膜用高阻隔封装薄膜的发展趋势。
 
关键词
量子点膜； 高阻隔膜 ；有机/无机多层膜；卷绕PECVD
报告人
秦 丽丽
兰州空间技术物理研究所

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活动信息
第十三届全国表面工程大会暨第十二届全国青年表面工程论坛

2020年11月13日~16日 China · 广州市

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