Oral Presentation超高吸收导电消光膜层的制备及性能研究
编号:267 访问权限:Participants Only 更新:2020-12-08 14:47:20 浏览:1109次

2020-11-15 09:10

15min

[C] 分会场二:第十二届全国青年表面工程论坛B [C1] 上午

暂无文件

摘要
超高吸收导电消光膜层的制备及性能研究
程德 王景润 白晶莹 李思振 冯立 陈学成 郭中增
(北京卫星制造厂有限公司 北京 100094 chengde529@163.com)
摘要:通过微纳刻蚀在化学镀镍层表面制备具有导电-消光性能的无机膜层,研究溶液温度、pH、持续时间、热处理参数对膜层消光性能的影响规律,并测试膜层的微观形貌、消光性能、结合力、导电性、热循环性能以及空间环境稳定性。结果表明:通过优化后的溶液温度、pH、持续时间制备的超高吸收导电消光膜层全光谱吸收率最高达到0.988;通过热处理能够提高膜层的结合力和可清洁性,热处理后导电消光膜层全光谱吸收率可以稳定达到0.97以上,膜层接触电阻<5 mΩ,具有良好的导电性,膜层具有优异的热循环稳定性和空间环境稳定性。
关键词: 导电;消光;膜层

备注:口头报告
报告人:程德,13601284474,chengde529@163.com
 
关键词
导电;消光;膜层
报告人
程 德
北京卫星制造厂有限公司

发表评论
验证码 看不清楚,更换一张
全部评论