图书馆-报告库-中国机械工程学会表面工程分会

Oral PresentationWC-Co和GH4169基体TiAlSiN性能对比

编号：473 访问权限：Participants Only 更新：2024-04-24 18:32:10 浏览：267次收藏取消收藏

2024-05-12 17:40

15min

[H3] 论坛7：摩擦、磨损与润滑技术B [H3-2] 论坛7B下午

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摘要

TiAlSiN涂层由于具有高硬度、高耐磨性以及良好的热稳定性和高温抗氧化性能，在精密加工、汽车行业以及航空航天等领域有着非常广阔的应用前景。为了研究TiAlSiN涂层对于不同基体材料的保护效果，采用等离子体浸没离子注入和沉积技术分别在WC-Co基体和GH4169基体上沉积单层TiAlSiN涂层和软硬交替多层TiAlSiN涂层。通过研究GH4169基体TiAlSiN涂层的膜基结合性能、力学性能以及载荷和调制周期对摩擦学行为的影响。单层涂层G2和G3的结合力分别为6.2N和11.8N，多层涂层G4和G5的结合力处于G2和G3之间。在多层涂层中，G5有着最高的H³/E^*2值，抗塑性变形能力最好。并且随着法向载荷的增加和调制周期的减小，摩擦系数降低。在较小调制周期下，TiAlSiN涂层的磨损程度相较于基体材料和单层涂层较轻，耐磨性能增加。通过与WC-Co基体TiAlSiN涂层相对比发现，WC-Co基体TiAlSiN涂层在摩擦过程中由于剪切效应产生的磨损碎屑和接触面上氧化物的积累产生的第三体层有助于增加耐磨性能，TiAlSiN涂层对于WC-Co基体的保护效果更加显著。