Oral Presentation多弧离子镀CrAlN涂层表面质量和性能研究
编号:379 访问权限:Participants Only 更新:2024-04-19 22:59:04 浏览:89次

2024-05-12 16:25

15min

[E1] 论坛4:热喷涂与冷喷涂技术A [E1-2] 论坛4A下午

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摘要
CrAlN涂层具有高的耐高温、耐氧化、耐腐蚀性能和硬度,因此被广泛运用于高速冲压加工及相关工程领域中。然而,在CrAlN的实际制备过程中,常伴随大量大颗粒存在,导致涂层性能降低,服役时间减少。本研究通过多弧离子镀在钨钢基体上制备了CrAlN涂层,研究了基体偏压、氮气流量、弧源电流、刻蚀时间、刻蚀电流及沉积时间对CrAlN的表面质量及残余应力的影响,揭示了工艺参数对涂层结合强度、厚度、硬度和耐腐蚀性能的调控机制,明确了提高CrAlN涂层表面质量、结合强度和耐腐蚀性能的关键工艺参数。结果表明,随着基体偏压和氮气流量的提高,离子的轰击作用增强,同时,氮气与靶材表面反应作用增强,使涂层表面颗粒数目及颗粒尺寸下降,显著提高涂层致密性,结合强度得到提高。弧源电流的增加导致靶材表面局部快速熔化,金属离子与液滴大量离化,加剧了液滴飞溅,涂层表面的大颗粒数量、厚度大幅度提高,结合强度下降。提高直流偏压、氮气流量,减少弧源电流会减少涂层表面大颗粒数量,从而提高涂层耐腐蚀性。对比表面质量优化后的CrAlN涂层,表面大颗粒数量最少的涂层(42.5±5个/10000 µm2)的自腐蚀电位Ecorr最大,为-0.36 V,腐蚀电流密度icorr最小。
 
关键词
PVD;CrAlN;表面质量;残余应力;结合强度
报告人
张 金涛
宁波大学

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