图书馆-报告库-中国机械工程学会表面工程分会

Oral Presentation磁控溅射二维材料电催化薄膜制备

编号：186 访问权限：Participants Only 更新：2024-04-11 12:46:02 浏览：89次收藏取消收藏

2024-05-12 11:30

15min

[K] 论坛10：能源催化与传感 [K-1] 论坛10上午

暂无文件

摘要

二维过渡金属硫属化合物相（2D-TMDs）的相变工程日益成为新的研究热点，相转变为二维材料的电子和光学性质带来了重大突破。其中金属相MoS₂（1T/1T-MoS₂）是具有代表性的2D-TMDs新能源材料之一，广泛应用于电催化、功能器件以及能源存储等领域。但其亚稳态的结构特点以及相变势垒过高等给大规模生产制备带来了许多问题，一定程度上限制了制备手段和应用场景的多元化。本研究旨在探索物理气相沉积技术（PVD）规模化制备1T-MoS₂，进而研究金属相二维材料异质界面在电催化析氢（HER）中电化学动力学过程以拓宽金属相二维材料在光电催化与功能器件等领域的应用。本研究拟选取常见的MoS₂体系为研究对象，采用磁控溅射方法，系统研究原位金属、非金属元素掺杂对MoS₂相变的影响，以及其对结构稳定性的影响，揭示原位掺杂对MoS₂相变的作用机制及异质界面效应，以期为规模化金属相二硫化钼材料制备提供理论指导，赋予了这种材料在实现“碳中和”、“碳达峰”中重要的研究意义。