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Oral PresentationTiSiN/NiTiAlCrCoN纳米多层膜工艺参数优化及抗空蚀性能研究

编号：34 访问权限：Participants Only 更新：2024-03-12 09:11:56 浏览：89次收藏取消收藏

2024-05-12 11:55

15min

[I1] 论坛8：腐蚀与防护技术A [I1-1] 论坛8A上午

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摘要

摘要：采用磁控溅射技术在304不锈钢和单晶Si片上制备TiSiN/NiTiAlCrCoN高熵合金纳米多层膜，以涂层的硬度、弹性模量和结合力为评价指标，通过三因素三水平正交试验对不同工艺参数进行优化，采用X射线衍射仪、扫描电镜、能谱仪等表征涂层材料的组织结构和形貌。结果表明，不同工艺参数下的涂层均为简单的面心立方结构，在(200)晶面出现择优取向，Ni、Ti、Cr、Co 四种元素在涂层中均匀分布。涂层表面结合力对涂层的抗空蚀性能影响较大，工艺参数对涂层表面结合力影响程度依次为氮氩流量比、基底温度、溅射功率，综合极差和方差的分析得到最终较优的工艺参数为氮氩流量比4：4，溅射功率100W，基底温度为室温。

关键词

磁控溅射,纳米多层膜,正交试验,极差和方差分析,抗空蚀性能

报告人

程方赢

北方工业大学

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活动信息

第十四届全国青年表面工程学术会议

2024年05月10日~12日 China · 宁波市

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