Invited speechTiN和CrN涂层的等离子体增强磁控溅射工艺比较研究
编号:1134 访问权限:Participants Only 更新:2023-03-23 15:32:04 浏览:1065次

2023-04-23 14:10

20min

[B2] 薄膜科技论坛二 [B2-2] 下午场

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报告人
付 志强
中国地质大学(武汉)

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