TiN和CrN涂层的等离子体增强磁控溅射工艺比较研究
编号:1134 访问权限:PARTICIPANT_ONLY 更新:2023-03-23 15:32:04 浏览:1058次 特邀报告

报告开始:2023-04-23 14:10

报告时间:20min

所在会场:[B2] 薄膜科技论坛二 [B2-2] 下午场

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关键词
报告人
付志强
中国地质大学(武汉)

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重要日期
  • 会议日期

    04-21

    2023

    04-23

    2023

  • 04-20 2023

    Draft paper submission deadline

  • 04-23 2023

    Registration deadline

主办单位

中国机械工程学会表面工程分会

承办单位

武汉材料保护研究所有限公司
特种表面保护材料及应用技术国家重点实验室

联系方式