纯铜在铝酸钠-磷酸盐电解液中的等离子体电解氧化研究
编号:64 访问权限:PARTICIPANT_ONLY 更新:2020-10-19 12:18:30 浏览:762次 口头报告

报告开始:2020-11-14 21:10

报告时间:15min

所在会场:[M] 分会场十二 :微弧氧化及液态等离子体电解技术论坛 [D1] 微弧氧化及液态等离子体电解技术11月14日晚场

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摘要
等离子电解氧化技术(PEO)通常用于铝、镁、钛等阀金属的表面处理,而对于非阀金属(如铁,铜)的报道较少。本文探究了纯铜在8 g l-1 NaAlO2 + 2 g l-1 NaH2PO2∙H2O中进行等离子体电解氧化及膜层性能。在初始阶段(< 300 V),纯铜表面生成一层绿色的沉积物,由电极四周逐渐向中心生长,最终全覆盖整个试样表面。随着电压快速增加至600V, 试样表面逐渐被浅灰色沉积物代替,随后在电压趋于高压稳定时生成黑色的氧化物膜层。在整个PEO处理过程中,电流波形由初始阶段的方形方波,转变成后期的不对称波形。通过XRD,XPS,EDS等检测发现,PEO处理的初始阶段纯铜表面的绿色沉积物主要由Cu(OH)2、CuAl2O4及微量Cu3(PO4)2组成。并且发现,铜元素在试样表面的氧化物占有的比例逐渐降低,而铝元素含量却有所升高,说明后期膜层中含有较多的Al2O3。试验采集了600 s 的发射光谱,通过玻尔兹曼作图法获得由Cu I谱线计算的等离子体电子温度为6872 K。摩擦试验表面,PEO处理显著提高了纯铜的耐磨性能。Mott-Schottky 曲线表明:PEO处理75 s的涂层在扫描电压为-0.3~0.4 V的范围内表现出p/n结的性质。扫描电压为-0.3 ~0.16 V(vs SCE)时MS曲线斜率为正,表现出n型半导体的性质;扫描电压大于0.16 V(vs SCE)时MS曲线斜率为负,涂层表现出p型半导体的性质。
关键词
等离子体电解氧化;纯铜;铝酸钠-磷酸盐电解质;Mott-schottky
报告人
程昱琳
湖南大学材料科学与工程学院

程英亮
湖南大学材料科学与工程学院

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北京大学深圳研究生院
现代材料表面工程技术国家工程实验室

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