阳极层离子源的改进及DLC涂层的制备
编号:365 访问权限:PARTICIPANT_ONLY 更新:2020-12-08 14:39:16 浏览:1274次 口头报告

报告开始:2020-11-15 17:15

报告时间:15min

所在会场:[B] 分会场一:第十二届全国青年表面工程论坛A [B2] 下午

暂无文件

摘要
阳极层离子源是用于输出气体等离子体的重要设备,在真空镀膜中用途广泛。然而,在放电的过程中,阳极层离子源的阴阳极表面会出现容易产生较严重离子沉积或溅射,产生了严重的污染,难以长期维持稳定高效的工作状态。鉴于此,本文从阳极层离子源的等离子体放电特性出发,利用等离子体仿真手段分析了电子和离子的运动轨迹,并以此对阳极层离子源进行了设备改进,大幅减小了阴阳极表面的污染。进一步利用改进的设备制备了DLC涂层,获得了厚度>50 μm,结合强度>70 N的高强度超厚DLC涂层。
 
关键词
离子源,等离子体仿真,DLC涂层,设备改进
报告人
崔岁寒
北京大学深圳研究生院

发表评论
验证码 看不清楚,更换一张
全部评论
重要日期
  • 会议日期

    11-13

    2020

    11-16

    2020

  • 10-31 2020

    Early Bird Registration

  • 11-05 2020

    Draft paper submission deadline

  • 11-16 2020

    Registration deadline

主办单位

中国机械工程学会表面工程分会

承办单位

广东省新材料研究所
北京大学深圳研究生院
现代材料表面工程技术国家工程实验室

联系方式