量子点膜用阻隔膜制备技术研究进展
编号:275 访问权限:PARTICIPANT_ONLY 更新:2020-12-08 14:02:00 浏览:1214次 口头报告

报告开始:2020-11-15 09:40

报告时间:15min

所在会场:[B] 分会场一:第十二届全国青年表面工程论坛A [B1] 上午

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摘要
量子点膜用高阻隔膜产品是量子显示封装技术的关键产品,高阻隔膜的制备工艺决定着阻隔膜产品性能特性。本文通过分析量子点膜用高阻隔膜产品性能指标,总结热蒸发、化学气相沉积、原子层沉积等制备柔性高阻隔薄膜的方法、原理、特点及应用,展望量子点膜用阻隔膜产品的发展前景。研究表明量子点膜用高阻隔薄膜制备工艺趋向于有机/无机多层结构的超高阻复合薄膜,采用卷绕PECVD技术沉积无机层,湿法涂布工艺沉积有机层是快速、高效、批量化制备量子点膜用高阻隔封装薄膜的发展趋势。
 
关键词
量子点膜; 高阻隔膜 ;有机/无机多层膜;卷绕PECVD
报告人
秦丽丽
兰州空间技术物理研究所

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重要日期
  • 会议日期

    11-13

    2020

    11-16

    2020

  • 10-31 2020

    Early Bird Registration

  • 11-05 2020

    Draft paper submission deadline

  • 11-16 2020

    Registration deadline

主办单位

中国机械工程学会表面工程分会

承办单位

广东省新材料研究所
北京大学深圳研究生院
现代材料表面工程技术国家工程实验室

联系方式