196 / 2020-09-20 19:19:17
超高吸收导电消光膜层的制备及性能研究
导电;消光;膜层
暂无
Draft Paper Accepted
德程 / 北京卫星制造厂有限公司
超高吸收导电消光膜层的制备及性能研究


程德 王景润 白晶莹 李思振 冯立 陈学成 郭中增

(北京卫星制造厂有限公司 北京 100094 chengde529@163.com)

摘要:通过微纳刻蚀在化学镀镍层表面制备具有导电-消光性能的无机膜层,研究溶液温度、pH、持续时间、热处理参数对膜层消光性能的影响规律,并测试膜层的微观形貌、消光性能、结合力、导电性、热循环性能以及空间环境稳定性。结果表明:通过优化后的溶液温度、pH、持续时间制备的超高吸收导电消光膜层全光谱吸收率最高达到0.988;通过热处理能够提高膜层的结合力和可清洁性,热处理后导电消光膜层全光谱吸收率可以稳定达到0.97以上,膜层接触电阻<5 mΩ,具有良好的导电性,膜层具有优异的热循环稳定性和空间环境稳定性。

关键词: 导电;消光;膜层



备注:口头报告

报告人:程德,13601284474,chengde529@163.com

 
重要日期
  • 会议日期

    11-13

    2020

    11-16

    2020

  • 10-31 2020

    Early Bird Registration

  • 11-05 2020

    Draft paper submission deadline

  • 11-16 2020

    Registration deadline

主办单位

中国机械工程学会表面工程分会

承办单位

广东省新材料研究所
北京大学深圳研究生院
现代材料表面工程技术国家工程实验室

联系方式