第十三届全国表面工程大会暨第十二届全国青年表面工程论坛

186 / 2020-09-20 13:18:29

阳极层离子源的改进及DLC涂层的制备

离子源,等离子体仿真,DLC涂层,设备改进

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阳极层离子源是用于输出气体等离子体的重要设备，在真空镀膜中用途广泛。然而，在放电的过程中，阳极层离子源的阴阳极表面会出现容易产生较严重离子沉积或溅射，产生了严重的污染，难以长期维持稳定高效的工作状态。鉴于此，本文从阳极层离子源的等离子体放电特性出发，利用等离子体仿真手段分析了电子和离子的运动轨迹，并以此对阳极层离子源进行了设备改进，大幅减小了阴阳极表面的污染。进一步利用改进的设备制备了DLC涂层，获得了厚度>50 μm，结合强度>70 N的高强度超厚DLC涂层。